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刷片清洗機  SC12-XC4S001A

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產(chǎn)品特點 1. 清洗機可以提供持續(xù)穩(wěn)定的液體壓力輸出,以保證工藝效果和產(chǎn)能;
2. 在不損傷圖形的前提下,提供較強的兆聲波能量,加速液體分子沖擊;
力,以去除深孔、深溝槽內(nèi)的污染物;
3. 液體流量、壓力以及溫度等參數(shù)控制的穩(wěn)定性,為產(chǎn)品的一致性提供了有力支撐。

產(chǎn)品應(yīng)用

應(yīng)用范圍:

化合物半導(dǎo)體、功率器件、MEMS、先進封裝、射頻集成電路、MircoLED,光學(xué)玻璃


產(chǎn)品參數(shù)

片盒數(shù)量
2CS&2LP
配置4 cleaning unit
wafer 類型圓片,方片
wafer 尺寸(mm)50-300
產(chǎn)能(WPH)120(正面)
化學(xué)藥液IPA、弱酸堿、DIW
襯底材料Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4
適用工藝Pre/Post clean
干燥模式Spin Dry+N2 Dry


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